第718章光刻机
第718章光刻机
南广林果然不愧是我国计算机领域首屈一指的科学家，在他的感召下，两周时间就有十多个青年计算机领域的科研工作者加入到他麾下。
研发团队的架子算是搭起来，下一步就要确立主攻方向。
南广林很尊重韩小东，毕竟人家掏出了现金白银，整整两千万，那可是钱，不是纸。
为此南广林专门找韩小东就此事做了一番长谈。
“小东，如今研发人员有了，咱们也该确定一下未来的研发方向，我想听听你的意见。”
韩小东很谦虚，“南工，在这方面我完全是个门外汉，主要还是要听你的意见。”
南广林思索了一下，“小东，我还是想研发芯片。”
果然如此。
前世，南广林在离开连想后，加入了园洲公司，在二零零一年四月研发出华夏第一片自己设计的嵌入式芯片园洲一号，在当时的科技界造成了非常大的轰动。
只可惜，搭载了园洲一号芯片的nc是基于linux工作环境，它联上互联网后同样需要服务器端的支持，而服务器端被微软和英特尔(wintel)联盟把持，他们根本不支持nc内嵌的linux工具软件，因此nc在互联网环境下的使用大受局限。
后期南广林和园洲公司的董事长在这件事情上产生了很大的分歧，最后南广林不得不负气离开，导致这个芯片项目中途落马。
韩小东不想让历史重演一遍。
他斟酌了一下语言，“南工，你有没有想过？
咱们能不能研发出光刻机来？”
“光刻机？”
南广林有些吃惊，“小东，难道你想研发光刻机？
这东西可比芯片更费钱。”
“南工，我说过，钱是我考虑的问题，你只需要考虑科研上的事情，南工，你就说依靠我们自己的力量能不能做成这件事，如果可行，花多少钱我都愿意。”
南广林并没有马上回答韩小东这个问题，他有着科技工作者独有的严谨，他足足思考了三分钟，这才缓缓开口。
“小东，其实咱们国家的光刻机制造，很早以前就开始了。”
1965年华夏科学院研制出65型接触式光刻机。
1970年，华夏科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
1972年，武汉无线电元件三厂编写《光刻掩模版的制造》。
1977年，我国最早的光刻机-gk-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。
1978年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。
1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
1981年，华夏科学院半导体所研制成功jk-1型半自动接近式光刻机。
1982年，科学院109厂研制出了kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800dsw的水平。
这应当是华夏第一台分步投影式光刻机，华夏在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。
南广林的脑子就像一部计算机，上面这些数据被他如数家珍的一一道出。
他的声音变得越来越低沉，“只可惜进入九十年代后，我国光刻机光源长时间被卡在193纳米无法进步，这个技术非常关键……而且在八十年代，我国和米国的关系得到改善，很多过去对我们限制的高科技产品，现在都可以卖给我们了，国外的光刻机产品，性价比远高于自我研发，我国光刻技术的研发和产业化实质上放弃了自主攻关。”
“小东，你的心情我能理解，之前我说过，如果我们搞芯片研发，资金要以千万为单位计算，但是如果搞光刻机的话，直接就要以亿为单位了。”
“现在国际上生产光刻机最强的国家是霓虹国，尼康听说过吗？
我们国家在193纳米这个指标上被卡住多年了，而尼康现在已经采用157nm的f2激光，至少领先我们二十年。
小东，就算你有钱，但作为长辈和朋友，我劝你一句，光刻机还是不要碰为好，它会让你倾家荡产。”
南广林的话语重心长，可谓是掏心窝子说的。
韩小东微微一笑，“南工，今年八月份我送燕晓去康奈尔大学……”
南广林见他突然说起不相干的事，有些奇怪，但是他出自对韩小东的信任，仍然耐心的听了下去。
“在康奈尔大学附近的咖啡馆，我偷听到过一个华裔科学家说了一段关于光刻机技术的话，原话我记不住，但是大概意思是这样的……”
“水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，就会降低光的波长，南工，你觉得这个方法可行吗？”
“加一层水？”
南广林整个人似乎都傻掉了，他不停的重复这四个字。
足足几分钟，南广林突然站了起来，“小东，你说的这个华裔科学家叫什么名字？”
“南工，我都说了我是偷听的，又怎么会知道对方的名字？”
韩小东气定神闲地端起咖啡杯，浅浅的喝了一口。
南广林是华夏最杰出的计算机科学家，只需要一点拨，那层蒙在我们眼前的窗户纸就会破掉。
韩小东刚才说的就是让世界震惊的“浸润式微影技术”，彻底改变了集成电路的生产。
这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。
当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，这项技术创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米。
这项技术是前世台积电一位天才的林姓科学家发明的，那一年是二零零二年。
而现在是一九九五，如果华夏提前七年起跑，会不会把对手拉在身后？
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南广林果然不愧是我国计算机领域首屈一指的科学家，在他的感召下，两周时间就有十多个青年计算机领域的科研工作者加入到他麾下。
研发团队的架子算是搭起来，下一步就要确立主攻方向。
南广林很尊重韩小东，毕竟人家掏出了现金白银，整整两千万，那可是钱，不是纸。
为此南广林专门找韩小东就此事做了一番长谈。
“小东，如今研发人员有了，咱们也该确定一下未来的研发方向，我想听听你的意见。”
韩小东很谦虚，“南工，在这方面我完全是个门外汉，主要还是要听你的意见。”
南广林思索了一下，“小东，我还是想研发芯片。”
果然如此。
前世，南广林在离开连想后，加入了园洲公司，在二零零一年四月研发出华夏第一片自己设计的嵌入式芯片园洲一号，在当时的科技界造成了非常大的轰动。
只可惜，搭载了园洲一号芯片的nc是基于linux工作环境，它联上互联网后同样需要服务器端的支持，而服务器端被微软和英特尔(wintel)联盟把持，他们根本不支持nc内嵌的linux工具软件，因此nc在互联网环境下的使用大受局限。
后期南广林和园洲公司的董事长在这件事情上产生了很大的分歧，最后南广林不得不负气离开，导致这个芯片项目中途落马。
韩小东不想让历史重演一遍。
他斟酌了一下语言，“南工，你有没有想过？
咱们能不能研发出光刻机来？”
“光刻机？”
南广林有些吃惊，“小东，难道你想研发光刻机？
这东西可比芯片更费钱。”
“南工，我说过，钱是我考虑的问题，你只需要考虑科研上的事情，南工，你就说依靠我们自己的力量能不能做成这件事，如果可行，花多少钱我都愿意。”
南广林并没有马上回答韩小东这个问题，他有着科技工作者独有的严谨，他足足思考了三分钟，这才缓缓开口。
“小东，其实咱们国家的光刻机制造，很早以前就开始了。”
1965年华夏科学院研制出65型接触式光刻机。
1970年，华夏科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。
1972年，武汉无线电元件三厂编写《光刻掩模版的制造》。
1977年，我国最早的光刻机-gk-3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。
1978年，1445所在gk-3的基础上开发了gk-4，但还是没有摆脱接触式光刻机。
1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平。
1981年，华夏科学院半导体所研制成功jk-1型半自动接近式光刻机。
1982年，科学院109厂研制出了kha-75-1光刻机，这些光刻机在当时的水平均不低，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。
1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到米国4800dsw的水平。
这应当是华夏第一台分步投影式光刻机，华夏在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。
南广林的脑子就像一部计算机，上面这些数据被他如数家珍的一一道出。
他的声音变得越来越低沉，“只可惜进入九十年代后，我国光刻机光源长时间被卡在193纳米无法进步，这个技术非常关键……而且在八十年代，我国和米国的关系得到改善，很多过去对我们限制的高科技产品，现在都可以卖给我们了，国外的光刻机产品，性价比远高于自我研发，我国光刻技术的研发和产业化实质上放弃了自主攻关。”
“小东，你的心情我能理解，之前我说过，如果我们搞芯片研发，资金要以千万为单位计算，但是如果搞光刻机的话，直接就要以亿为单位了。”
“现在国际上生产光刻机最强的国家是霓虹国，尼康听说过吗？
我们国家在193纳米这个指标上被卡住多年了，而尼康现在已经采用157nm的f2激光，至少领先我们二十年。
小东，就算你有钱，但作为长辈和朋友，我劝你一句，光刻机还是不要碰为好，它会让你倾家荡产。”
南广林的话语重心长，可谓是掏心窝子说的。
韩小东微微一笑，“南工，今年八月份我送燕晓去康奈尔大学……”
南广林见他突然说起不相干的事，有些奇怪，但是他出自对韩小东的信任，仍然耐心的听了下去。
“在康奈尔大学附近的咖啡馆，我偷听到过一个华裔科学家说了一段关于光刻机技术的话，原话我记不住，但是大概意思是这样的……”
“水会影响光的折射率——在透镜和硅片之间加一层水，就会降低光的波长，南工，你觉得这个方法可行吗？”
“加一层水？”
南广林整个人似乎都傻掉了，他不停的重复这四个字。
足足几分钟，南广林突然站了起来，“小东，你说的这个华裔科学家叫什么名字？”
“南工，我都说了我是偷听的，又怎么会知道对方的名字？”
韩小东气定神闲地端起咖啡杯，浅浅的喝了一口。
南广林是华夏最杰出的计算机科学家，只需要一点拨，那层蒙在我们眼前的窗户纸就会破掉。
韩小东刚才说的就是让世界震惊的“浸润式微影技术”，彻底改变了集成电路的生产。
这项技术是在透镜和硅片表面的间隙中，用水代替空气以提高分辨率。
当全世界的半导体研发团队都在专注于157纳米波长技术时，这项技术创造性地以193纳米波长的光，通过水作为介质，将其缩短至134纳米。
这项技术是前世台积电一位天才的林姓科学家发明的，那一年是二零零二年。
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